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离子注入机 IH-860DSIC
特长可以自动连续高温处理注入1价离子可注入350keV，2价离子可注入700keV（可选择1价离子可注入430keV，2价离子可支持860keV）在
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2021-09-22 |
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PECVD设备 CC-200
产品简介：Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。 产品特性
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2021-09-22 |
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溅射台CS-200
产品特性： 通过利用常规过程数据和专有技术重新设计了易用性 通过在负载锁定室中安装暗盒机构（可选）来提高生产率 zui大基板传
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2021-09-22 |
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蒸发台Esz系列Esz-R-1/2
产品特性： 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜 镀膜精度高,可达10E-10m 蒸发镀膜的纯度高,附着力强 镀膜的均匀性
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2021-09-22 |
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刻蚀机NE-550EX
特长通过磁场辅助，可以产生比其他ICP方式低压力、低电子温度、高密度等离子体，从离子性蚀刻到自由基性蚀刻，可以进行宽范围的
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2021-09-22 |
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离子注入机SOPHI-400
离子注入装置SOPHI-400可以支持Max2400KeV的高能量离子注入装置。特长单叶式支持稀薄Wafer平行光束用途功率器件等薄型基板工艺、
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2021-09-22 |
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溅射台 SME-200
产品简介：它是一种多室型溅射装置，可以配备多个处理室（*多3个腔室200E，*多5个腔室200J和*多7个腔室200）
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2021-09-22 |
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蒸发台Ei 系列
产品特性： 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜 镀膜精度高,可达10E-10m 蒸发镀膜的纯度高,附着力强 镀膜的均匀性
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2021-09-22 |
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